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Cadence携手TSMC合作加速基于N3和N4工艺的移动、人工智能和超大规模计算应用开发

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双方客户已使用经过认证的 Cadence 数字流程和定制化/模拟工具套件,完成 TSMC 先进工艺上的测试芯片成功流片。

中国上海,2021 年 5 月 31 日——楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日宣布,公司将扩大与 TSMC 的合作,在 TSMC N3 和 N4 工艺制程上提供集成的 Cadence® 数字流程和定制化/模拟工具套件,加速移动、人工智能和超大规模计算应用设计。


Cadence 和 TSMC 的共同客户已经使用数字和定制化/模拟工具成功完成测试芯片的流片。作为合作的一部分, Cadence 的数字和定制化/模拟工具已经针对 TSMC N3 和 N4 工艺制程技术进行了优化和工艺认证,支持最新的设计规则手册(DRM)认证和 SPICE 关联。相应的 N3 和 N4 工艺制程设计套件(PDK)现可提供。


该数字和定制工具套件支持 Cadence 的智能系统设计™(Intelligent System Design™)战略,旨在助力客户实现系统级芯片的卓越设计。


如需了解有关 Cadence 数字和定制先进工艺节点解决方案的更多信息,请访问 www.cadence.com/go/advndn34.com。


N3 和 N4 工艺的数字流程认证


Cadence 数字流程工具针对 TSMC N3 工艺制程进行精细优化,现已通过认证,为客户提供更佳的功耗、性能和成本(PPA)并缩短产品上市时间。


完整的 RTL-GDS 流程包括 Innovus™ Implementation System 设计实现系统、Liberate™ Characterization Solution 参数特征化解决方案、Quantus™ Extraction Solution 提取解决方案、Tempus™ Timing Signoff Solution 时序签核解决方案和 ECO Option、和用于电迁移和 IR 压降分析的 Voltus™ IC Power Integrity Solution 电源完整性解决方案。此外,Genus Synthesis Solution 综合解决方案及其可预测性 iSpatial 技术也支持该工艺制程。


Cadence 工具套件可支持客户成功设计移动、人工智能和超大规模计算应用,提供多个强大特性,包括:从综合到签核 ECO 的高级规则支持、全流程支持的混合高度单元行;包含多种高度、电压阈值(VT)和驱动强度单元的大型库;超低电压单元特征化和时序分析精度。


N3 和 N4 工艺的

定制化/模拟工具套件认证


TSMC 和 Cadence 一直在持续合作,在 Cadence 的 Virtuoso® 和 Spectre® 环境中优化定制化 IC 设计方法学并满足复杂的仿真要求,以提高设计工程师的整体效率。


在这项合作中,Cadence 还提供了一个增强型定制化 IC 设计参考流程(CDRF),Virtuoso Design Platform 设计平台和 Spectre Simulation Platform 仿真平台已经获得了 TSMC N3 和 N4 工艺认证。此外,Virtuoso 平台与 Innovus Implementation System 设计实现系统紧密集成,为使用 TSMC 先进工艺进行混合信号设计的客户提供了一体化的统一设计环境。


针对 TSMC N3 和 N4 工艺的定制化 IC 设计流程,其增强功能包括增强的 N3 原理图设计迁移流程以及面向 N3 和 N4 工艺的高级着色支持。


    

“通过我们与 Cadence 的深入合作,我们提供了客户所需的认证流程和 PDK,帮助他们快速采用先进的 TSMC 的 N3 和 N4 工艺制程。”TSMC 设计基础架构管理部副总裁 Suk Lee 说道,“我们已经看到我们的客户在最新的先进工艺上成功完成了测试芯片设计和流片,并期待与 Cadence 继续保持合作关系,以实现用于移动、汽车、人工智能和超大规模应用的下一代设计。”

     


     

“得益于我们与 TSMC 的最新合作,我们的共同客户能够在 TSMC N3 和 N4 工艺制程上,充分利用 Cadence 数字流程和定制化工具流程的优势。”Cadence 公司资深副总裁兼数字和签核事业部总经理 Chin-Chi Teng 博士表示,“我们的客户已经取得了积极的成果,我们也期待着实现更多令人叹为观止的创新——这一切都源于我们对系统级芯片卓越设计的执着追求。”

来源:Cadence楷登
ACTSystem电源电路航空汽车电子电源完整性消费电子芯片云计算Cadence人工智能
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首次发布时间:2025-10-02
最近编辑:1年前
Cadence楷登
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