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Zemax案例 | 基于Zemax相机多自由度主动对准技术研究

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引言

在消费电子、自动驾驶、工业视觉等领域高速发展的今天,相机模块已成为核心感知部件,其成像质量直接决定终端产品的性能上限。光学系统在制造与装配过程中产生的累积误差,是制约成像品质提升的关键瓶颈。传统被动对准工艺效率低下、精度有限,而现有主动对准技术高度依赖波前传感器等专用设备,难以兼顾精度、速度与工程实用性。浙江大学新发表于Optics Express的研究成果,提出一种基于调制传递函数(MTF)的顺序式多自由度主动对准方法[1],依托Zemax OpticStudio完成全流程仿真验证,实现相机模组高精度、高效率、低成本的工程化对准,为高端光学模组量产提供新的技术路径。

相机模块对准技术现状与行业痛点

光学系统的装配误差主要体现为透镜偏心、倾斜、轴向偏移及传感器位姿偏差,这些误差会引发场曲、像散、彗差等高阶像差,显著降低MTF、分辨率等核心指标。当前行业对准技术主要分为两类,均存在难以突破的瓶颈。

(1)传统被动对准:效率与精度双重受限

被动对准依赖公差分配与机械夹具定位,装配后通过筛选合格品控制良率。该方法流程繁琐、耗时较长,无法实时补偿装配误差,面对高像素、大视场、复杂结构的现代相机模组,误差累积效应被急剧放大,难以满足高端成像需求。

(2)现有主动对准:设备依赖与复杂度居高不下

主动对准(AA)通过实时监测光学特性、动态调整组件位姿实现精度补偿,是行业主流升级方向。现有技术可分为三类:

  • 像差分析法:基于节点像差理论,建立误差与波前像差的解析关系,需高精度波前测量,设备成本高昂[2];

  • 数据驱动法:通过深度学习、灵敏度矩阵建立数值映射[3],依赖大量样本与复杂训练,工程落地门槛高;

  • 搜索优化法:构建评价函数引导优化,无需复杂建模,但遍历搜索耗时极长,多自由度场景下效率暴跌。

行业痛点高度集中:高精度对准与高效率量产难以兼得,专用设备依赖度高,复杂光学系统适配性差。突破这一困境,亟需一套简化装置、高效算法、精准仿真支撑的一体化解决方案。

基于MTF的顺序式多自由度主动对准方法核心原理

本研究创新性提出以MTF为核心评价指标的三段式顺序对准流程,无需波前传感器,仅通过倾斜边缘图像即可完成全流程对准,兼顾精度、速度与工程实用性,整体方案如图1所示。

图1 所提主动对准方法总览。

(a)MTF计算流程(b)离焦测量与补偿(c)顺序式主动对准流程

(1)灵敏度矩阵对准:快速校正透镜组偏心

研究突破传统波前像差灵敏度矩阵的局限,基于离焦MTF曲线构建新型灵敏度模型。通过高斯函数拟合离焦MTF曲线,提取峰值位置z₀参数,该参数直接表征场曲与像散大小。

在小误差假设下,建立z₀与透镜组偏心的线性关系,构建灵敏度矩阵:

式中:为各视场z₀与理想焦移的差值,Si,j为一阶灵敏度矩阵,ΔD为系统误差量。基于z₀参数定义损失函数,采用BFGS算法极小化损失,快速校正透镜组偏心,初步消除场曲与像散,全程无需复杂波前测量,数据采集与标定仅需3分钟。

(2)贝叶斯优化对准:精准优化透镜组倾斜

透镜组倾斜灵敏度与内部轴向误差强耦合,线性度差,传统灵敏度方法失效。研究引入贝叶斯优化(BO)处理这一非线性黑箱优化问题:

  • 以高斯过程回归(GPR)为代理模型,建立透镜组倾斜与MTF损失函数的映射关系;

  • 采用期望提升(EI)采集函数平衡探索与开发,高效搜索理想倾斜量;

  • 定义MTF损失函数综合评价成像质量与均匀性,实现全局理想匹配。

该步骤精准补偿倾斜误差,完成透镜组高精度对准,为传感器微调奠定基础。

(3)传感器对准:多视场物理信息驱动的五自由度精调

透镜组固定后,传感器对准本质是寻找多视场成像质量综合理想的位姿平面。研究利用多视场离焦曲线的空间分布信息,建立传感器倾斜与视场专属焦移补偿的等效模型,通过BFGS算法快速求解理想倾斜与偏心量,实现传感器dx、dy、dz、tx、ty五自由度精调,完成全系统对准。

基于Zemax的蒙特卡洛仿真验证与关键流程

为全面验证所提方法的有效性,研究基于Zemax OpticStudio软件,通过ZOS‑API接口实现蒙特卡洛仿真,构建贴近实际生产的误差模型,完成批量样本测试与对比分析。

(1)仿真对象与参数设置

仿真对象为智能手机长焦相机模组,结构包含两组透镜(LG1、LG2)与传感器组,每组含3片15阶非球面塑料透镜,具体参数如图2所示

图2 相机模组参数

(2)公差建模与样本生成

贴合实际生产流程,在Zemax中设置两类公差:

  • 制造公差:表面偏心/倾斜、中心厚、面形误差、折射率偏差;

  • 装配公差:元件级/组级偏心/倾斜、空气间隙误差,具体范围如图3

图3 相机模组容差范围

通过Zemax ZOS-API批量生成125组含公差透镜样本,25组用于灵敏度分析,100组用于批量对准测试,确保仿真结果具备统计显著性与工程参考价值。

(3)Zemax仿真核心流程

  1. 系统建模:在Zemax中构建序列模式光学系统,设置470–650nm全可见光波段,配置13个视场覆盖0、0.3、0.5、0.8倍标准视场;

  2. 误差注入:通过坐标断点(Coordinate Break)模拟组件位姿误差,复现实际装配偏差;

  3. 灵敏度分析:sweep扫描透镜组各自由度,提取离焦曲线z₀参数,验证线性度与稳定性,如图6、图7所示(配图来源:原文图6、图7);

  4. 批量对准仿真:集成灵敏度矩阵、贝叶斯优化、传感器对准算法,对比Sensor AA、分治法AA、BO AA等主流方案,统计MTF提升与耗时;

  5. 结果输出:自动提取MTF、损失函数、对准时间等关键指标,生成对比报告。

图4理想模块的z₀与每个自由度之间的关系。

图5 镜头的灵敏度特性及公差

(4)仿真结果

Zemax仿真结果充分验证方法优越性:

  • 偏心灵敏度保持高线性度,x/y方向平均R²达0.906/0.951,倾斜灵敏度线性度显著下降,印证分段对准策略合理性;

  • 所提方法全程对准仅需8.485秒,较传统搜索法提速59%;

  • 90 lp/mm处平均MTF提升幅度更为理想,较Sensor AA高89%,较分治法AA高24%,全视场成像均匀性实现有效优化。

实验验证

依托相机实验平台,研究完成实物测试,进一步验证基于Zemax仿真的对准方法的工程可行性。

(1)实验装置与流程

实验装置如图6所示,包含均匀光源、高分辨率倾斜边缘靶标、中继镜头、六轴运动控制器与待测模组,全程自动化执行对准流程。

图6 相机模块AA的实际实验装置

(2)关键实验结果

  • 灵敏度标定:3分钟内完成透镜组灵敏度标定,偏心方向线性度R²高可达0.948,与Zemax仿真趋势高度一致;

  • 离线验证:灵敏度矩阵对准偏心平均绝对误差x方向2.5μm、y方向4.5μm,传感器倾斜对准误差<0.025°,精度满足量产要求;

  • 实装测试:5组模组对准后,多视场离焦曲线高度收敛,峰值MTF显著提升,如图7所示,成像质量改善效果直观可见。

图7 真实环境下模块在抗锯齿处理前后的离焦MTF曲线

Zemax软件在高端光学模组研发与量产中的核心价值

本研究从算法创新到工程落地,全程依托Zemax完成仿真验证、误差分析、算法迭代,充分彰显Zemax在光学制造领域的广泛适用性。

全流程仿真支撑,降低研发试错成本

Zemax OpticStudio提供从系统建模、公差分析、像差评估到算法验证的一体化仿真环境,无需搭建实物平台即可完成数千组样本测试,大幅缩短研发周期,降低硬件投入。

高精度误差建模,复现真实生产工况

通过坐标断点、公差编辑器、ZOS‑API接口,精准复现制造与装配误差,模拟实际生产中的偏心、倾斜、面形误差等关键扰动,确保仿真结果与实物高度匹配。

开放接口赋能算法创新

ZOS‑API支持Python、MATLAB等外部程序调用,可集成贝叶斯优化、深度学习等优秀算法,实现自定义对准流程、自动化批量仿真,助力前沿技术快速落地。

面向量产的工程化适配

仿真结果直接指导工装设计、工艺参数优化、良率提升,所提对准方法装置简化、耗时极短,高度适配高端相机模组大批量、高效率、高精度的量产需求。


参考文献:

[1] Wenjiang Zhu, Chenwei Yang, Jiajian He, Anqin Yao, and Yungui Ma, "Multi-degree-of-freedom active alignment for camera modules via a sequential method and streamlined setup," Opt. Express 34, 14249-14265 (2026)

[2] Y. Mo, H. Tan, H. Ji, et al., “Desensitized design of optical systems by evaluating assembly tolerance sensitivity based on Nodal Aberration Theory,” Opt. Commun. 595, 132369 (2025).

[3] B. Zhu, X. Bai, S. Wang, et al., “Single-ffeld-of-view misalignment solution method based on map sensitivity matrix,” Opt. Express 33(7), 16562–16583 (2025).

来源:摩尔芯创
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首次发布时间:2026-05-11
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Zemax案例 | 基于Zemax实现AR波导全视野高均匀性设计方案

引言在增强现实(AR)技术飞速发展的当下,波导式AR显示设备因兼具紧凑性与宽视野优势,成为行业研发的核心方向。而眼动范围(Eyebox)的照度均匀性,直接决定了用户的沉浸式视觉体验,是波导式AR显示技术突破的关键痛点。天津大学团队在《Optics Express》发表的研究中,提出基于随机掩模光栅(RMG)的L型光栅波导设计方案[1],成功在20°×15°视野范围内实现全视野眼动范围均匀性均大于0.78的优异效果。而在这一创新研究的成像质量验证环节,Zemax软件凭借强大的光学仿真能力,成为验证随机掩模光栅成像性能的核心工具,为AR光栅波导的设计与优化提供了精准的技术支撑。AR光栅波导的眼动范围均匀性难题AR技术自上世纪60年代问世以来,已广泛应用于军事、娱乐、医疗、教育等多个领域。其中,光栅波导因能通过出瞳扩孔器(EPE)实现大视场、大眼球盒,成为近眼AR显示的主流技术方案。但在实际应用中,光栅波导的出瞳扩展过程中,未衍射光的能量会逐渐衰减,导致眼动范围内的空间照度均匀性变差——用户眼球转动时,虚拟图像的亮度会出现明显波动,严重影响视觉体验。为解决这一问题,行业内先后提出多种优化方案:如对称双目波导系统、分区域设计衍射效率光栅、考虑多视场的衍射效率优化等。但这些方案均存在明显短板:部分方案仅优化中心视场,边缘视场均匀性不佳;部分方案需迭代计算衍射效率分布,计算效率低下;还有部分方案要求设计复杂的光栅子结构,大幅提升了制造难度,难以实现产业化应用。实现全视野范围内的高眼动范围均匀性,同时兼顾设计效率与制造可行性,成为AR光栅波导技术发展亟待突破的核心问题。随机掩模光栅(RMG)的创新设计思路针对传统方案的不足,天津大学团队提出了以随机掩模光栅(RMG)为折叠光栅和出耦合光栅的L型光栅波导创新设计,从原理上简化了光栅波导的设计流程,同时实现了全视野的高眼动范围均匀性。核心原理:不变光栅结构,调控掩模填充因子与传统方案通过修改光栅结构实现衍射效率分布调控不同,随机掩模光栅的核心创新点在于:保持单个光栅的结构不变,通过调整掩模的填充因子(光栅结构存在概率,PGS)实现等效衍射效率的精准调控。随机掩模光栅被划分为众多方形单元,每个单元中光栅结构的存在与否呈随机分布,而整个光栅的物理结构保持一致。沿出瞳扩展方向逐步提高光栅结构的存在概率,即可实现衍射效率的梯度分布,其效果与传统多子区域光栅一致,但无需设计多种光栅结构,大幅降低了设计与制造难度。图1 (a)传统多子区域光栅;(b)随机掩模光栅(RMG)理论分析:解析解推导衍射效率分布团队基于经典L型光栅波导模型,对水平和垂直方向的出瞳扩展过程进行了详细的理论分析,通过微分方程推导得出满足照度均匀性条件的衍射效率分布解析解:1.折叠光栅(水平EPE):仅考虑零级和-1级反射衍射,推导得出-1级衍射效率的双变量分布函数,实现水平方向眼动范围均匀性调控;2.出耦合光栅(垂直EPE):考虑零级、-1级、-2级衍射的能量损耗,通过简化微分方程,得出零级衍射效率的分布解析解,实现垂直方向均匀性调控。该设计通过将衍射效率分布拆解为角度相关项与空间相关项的乘积,利用随机掩模光栅的填充因子调控空间相关项,光栅结构调控角度相关项,实现了全视野、全方向的衍射效率精准匹配。图2 传统的L形光栅波导系统。(a)波导结构示意图;(b)K空间分析图图3 基于RMG的L型光栅波导布局图光栅优化:RCWA结合PSO的精准设计为实现理论推导的衍射效率分布,团队采用严格耦合波分析(RCWA)结合粒子群优化(PSO)算法,对折叠光栅、出耦合光栅及入耦合光栅的结构进行了优化设计:1.确定光栅核心参数:选用532nm波长,HOYA-FD60W玻璃为波导基底(折射率1.817),波导厚度1mm,入耦合光栅、折叠光栅、出耦合光栅周期分别为440nm、311nm、440nm;2.子区域划分:将折叠光栅(30mm)分为15个水平子区域,出耦合光栅(18mm)分为9个垂直子区域,设置填充因子下限0.3,避免眼动范围局部无光照;3.结构优化:光栅采用梯形结构(可通过纳米压印技术批量制造),镀TiO₂膜层使衍射效率曲线更平滑,通过PSO算法优化光栅深度、膜层厚度、形状参数等,使光栅衍射效率与理论解析解高度匹配。优化后的入耦合光栅为锯齿形结构,镀银层后非偏振光平均衍射效率达0.747,为整个波导系统提供了高效的光耦合能力。图4 (a)入射耦合光栅结构示意图;(b)入射耦合光栅衍射耦合效率Zemax精准验证随机掩模光栅的成像性能在随机掩模光栅的设计中,掩模的随机分布是否会影响成像质量,是方案可行性的关键验证点。该团队采用Zemax搭建仿真模型,对随机掩模光栅的成像性能进行了系统验证,为方案的可行性提供了精准的仿真数据支撑。Zemax仿真模型搭建团队在Zemax中构建了模拟人眼的成像系统:采用直径3mm、焦距23mm的理想透镜模拟人眼光学系统,在光路中加入填充因子(PGS)为0.3的随机掩模光栅,模拟实际应用中随机掩模光栅对成像的影响。核心仿真指标:调制传递函数(MTF)调制传递函数(MTF)是评价光学系统成像清晰度的核心指标,反映了系统对不同空间频率细节的传递能力。团队通过Zemax仿真,获取了不同像素尺寸(0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm)下随机掩模光栅的MTF曲线,并与无掩模的衍射极限MTF曲线对比。图5 (a)带有随机掩模的成像系统;(b)中心场的MTF曲线仿真关键结论Zemax的仿真结果显示:当随机掩模光栅的像素尺寸为0.2mm时,其MTF曲线在空间频率低于40lp/mm时与衍射极限高度重合,即使在100lp/mm的高空间频率下,MTF值仍大于0.61。而100lp/mm的空间频率对应20°×15°视野下1600×1200的分辨率,完全满足AR近眼显示的视觉要求。这一结果充分证明,随机掩模光栅的随机分布对成像质量的影响在可接受范围内,为该设计方案的实际应用奠定了重要的成像性能基础。系统仿真:多软件联合验证方案可行性在完成光栅结构设计与Zemax成像性能验证后,团队采用Lighttools与Rsoft软件搭建了完整的L型光栅波导系统仿真模型,对全系统的眼动范围均匀性、能量效率进行了全面验证,同时结合Zemax的成像仿真结果,形成了“设计-成像验证-系统验证”的完整仿真流程。仿真模型构建1.利用Rsoft软件的RCWA功能,生成折叠光栅、出耦合光栅、入耦合光栅的双向散射分布函数(BSDF),精准描述光栅的衍射特性;2.在Lighttools中搭建L型光栅波导的三维模型,导入Rsoft生成的BSDF文件,设置波导的全内反射(TIR)条件,模拟光在波导中的传播、耦合、出瞳扩展过程;3.考虑光的偏振特性,采用9点法评价眼动范围均匀性:在16mm×12mm的眼动范围内均匀选取9个3mm×3mm的区域,计算各区域的平均照度,通过公式计算空间均匀性。图6 (a)Lighttools中搭建的L形光栅波导模型;(b)九点法示意图核心仿真结果1.眼动范围均匀性:在20°×15°的全视野范围内,所有视场的眼动范围均匀性均大于0.78,中心视场均匀性更是超过0.84,远优于传统设计方案,能为用户提供无亮度波动的沉浸式视觉体验;2.全视野均匀性补充验证:采用3mm×3mm卷积核对整个眼动范围的照度分布进行卷积分析,以P5/P95值评价全视野均匀性,结果显示所有视场的P5/P95值均大于0.66,验证了全眼动范围的照度均匀性;3.能量效率:全系统的能量效率为0.03~0.07,虽受多次衍射效应影响存在一定能量损耗,但可通过优化光栅结构进一步提升,且在均匀性优先的设计目标下,该能量效率处于可接受范围。图7 卷积后中心区域的照度分布仿真结果充分验证了基于随机掩模光栅的L型光栅波导设计方案的可行性,实现了“全视野、高均匀性、易制造”的设计目标,而Zemax作为成像性能验证的核心工具,为该方案的落地扫清了成像质量的关键障碍。Zemax:AR光学设计的关键工具从本次天津大学团队的创新研究,到全球AR/VR行业的技术发展,Zemax软件始终作为关键光学仿真工具,为各类新型光学结构的设计、验证、优化提供全方位的技术支撑。在AR光栅波导设计领域,Zemax的核心优势体现在:精准的光学建模:支持光栅、波导、自由曲面等多种新型光学元件的建模,可精准模拟光在复杂光学系统中的传播规律;全面的成像评价:提供MTF、畸变、照度均匀性、点列图等丰富的成像质量评价指标,满足AR近眼显示的高精度成像验证需求;高效的优化能力:支持多种优化算法,可结合实际设计目标对光学系统进行快速优化,大幅缩短研发周期;良好的兼容性:可与Lighttools、Rsoft、Matlab等软件无缝衔接,实现“光栅设计-系统仿真-算法优化”的一体化流程,适配前沿光学研究的复杂需求。Ansys官网参考仿真案例:https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661745411859-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-1https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661829809043-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-2https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661798799251-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-3https://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661810986003-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-4参考文献:[1] Wu Y, Pan C, Lu C, Zhang Y, Zhang L, Huang Z. Augmented reality display with high eyebox uniformity over the full field of view based on a random mask grating. Opt Express. 2024 May 6;32(10):17409-17423. doi: 10.1364/OE.521992. PMID: 38858925.来源:摩尔芯创

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