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HBM2 硅中介层建模和快速电源纹波评估方法

11月前浏览401
HBM(High Bandwidth Memory高带宽内存)是一种专为3D堆叠SDRAM设计的高性能RAM接口。它在图形加速器、AI芯片、区块链和云计算等领域有着广泛的应用。      

•HBM2:每个堆栈包含八个芯片,传输速率翻倍至2 Gbps,保持1024位宽访问,单封装可达到256 GB/s的内存带宽。

•HBM2E:2018年底,JEDEC宣布了HBM2规范的更新,提供了更高的带宽和容量,每个堆栈最高可达307 GB/s。


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2.5D硅中介层的设计

硅中介层(2.5D Silicon Interposer)充当HBM与ASIC、芯片与基板之间的桥梁。

•由于HBM芯片与ASIC芯片之间存在数千条连接线路,因此在这些高速IO信号的布线过程中,必须仔细考量SI/PI性能。

如下图所示,HBM与PHY的连接结构专为2.5D封装系统设计,通过硅中介层在DRAM堆栈和PHY之间传输信号。

•该系统旨在为服务器、网络和图形应用提供2Gbps的最大数据传输速率。HBM PHY拥有8个独立通道,总DQ宽度为1024。总信号数约为1700+。•PHY作为单个集成硬宏(hard macro)嵌入ASIC中。PHY宏内含测试模块,便于独立启动和测试PHY,无需依赖内存控制器。

在SI方面,HBM与PHY之间的线长经过精心选择,较长的线需要更强的驱动器。高速信号在M1/M3层布线,屏蔽层位于M2层。所有信号的布线设计都考虑了线长差异,±0.15%。

SI仿真可优化的变量有信号宽度、走线间距和屏蔽pattern。一般层叠优化空间比较小,不像封装和PCB那样可以选择不同厚度材料等。

在PI方面,应构建并优化IO电源和VSS网络的power mesh,以减少中介层内的阻抗。之后,优化TSV与C4的ratio/pattern,最终这些IO电源网络在封装级和PCB级实现互连,还需要考虑电源合并的层级,是封装还是PCB。

02

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2.5D硅中介层的建模优化

1、SI仿真建模

HBM网络非常多,SI前仿真很有必要来确定上面说的线宽线距等变量。

仿真pattern如上图;

间距:DQS在两侧均有DQ攻击。DQS的内部间距与DQ相同,以减少偏斜skew;而DQS与DQ之间的间距是DQ网络间距的两倍,以减少抖动。

•仿真pattern或者码型:模拟了最坏情况下的0/1模式,包括M1和M3金属层中的512位。

•眼图质量:通过电容、电阻、噪声等因素确定。进行了多样性实验,以获得最佳的轨迹参数,如宽度、间距和屏蔽pattern等。


系统时序预算要求:频率为2Gbps,UI为500ps。

写预算:ASIC PHY占20%,通道占30%,HBM2占50%;

读预算:ASIC PHY占30%,通道占30%,HBM2占40%。

•对于读取和写入通道,所消耗的时序应小于UI的30%。

单bit仿真配置



2、PI仿真建模

PI路径相比传统封装,多了硅中介层;硅中介层通过信号布线和电源网格连接HBM芯片和ASIC芯片;

•建模难度#1:由于中介层包含大量的ubump和C4凸点,当前的EDA工具难以准确建模;

•建模难度#2:中介层中存在大量的TSV、不同金属层中的信号和电源/地线网格,这同样增加了建模的难度。

XcitePI工具或者其他工具可完成这部分模型抽取;这里不详细介绍;



目标就是抽取下面红框中的对应网络的寄生网表或者S参数;


03

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HBM电源噪声预测方法

方法1 电源纹波倍乘(Voltage Multiplying):

思路就是仿真抽取部分IO工作下的纹波,计算总的IO和仿真部分IO的比值,然后得到的纹波用该倍数相乘。

仿真实例:

1.数据传输速率为2Gbps。

2.缓冲强度为15MA。

3.Rdie为3mOhm,Cdie为35nF。

4.输入电压V_IO Supply=1.2V。

5. 32个DQ引脚+12其他引脚(48net)。



可以看到48个net下纹波位0.31mV。然后预测3072网络下电源纹波大小。

该方法可能和实际工作场景有差异。


方法2 电流倍乘(Current Induced Method):

该方法和纹波倍乘类似,先仿真得到一些IO工作下的电流,然后计算总IO/仿真IO数得到倍成系数,然后用该系数乘以电流得到总IO下的电流。

注意该方法和实际工作场景有差别,会偏悲观。

下图也显示实际CPM计算结果和倍乘方法纹波有差异,不过该方法有点就是快速,可用于前期Cdie评估等。

具体步骤如下:

1、搭建仿真环境,probe下来PHY和HBM的电流曲线。




2、倍乘的电流曲线仿真HBM和PHY纹波


仿真得到纹波大小:

最终的验证(sign-off阶段)还需要依据CPM文件(加关注以后介绍哦),里面需要包含实际的Rdie和Cdie信息,同时包含恶劣工作场景下电流信息,



为了提升抽取时间,CPM文件一般只抽取一部分,比如只抽取了一半HBM,,可以用子电路将其例化两次,这样可大大提供迭代周期。



04

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HBM电源噪声测量

硅中介层的IO电源网络(VDDHBM和VDDIO)在封装内连接,然后这些电源通过封装的焊球与VDD_HBMQC相连,用于进行纹波测量。

•在测试板上的C21电容处,使用Lecroy示波器分别以20MHz、200MHz和1GHz的带宽测量了电源噪声。

测试时,测得的HBM功率噪声为3%~5% VDDQ,可满足8%的噪声规格。


本文介绍了2.5D硅中介层的设计,包括SI/PI的考虑和优化。详细讨论了2.5D硅中介层的仿真过程,

提出了两种新的方法来预测HBM(高带宽内存)的功率噪声,分别是电压倍增法和电流倍增法。实验室中测量了HBM的噪声和功能,测量结果与预测的功率噪声性能高度一致。所采用的电源噪声预测方法也对其他2.5D硅中介层设计,特别是最先进的AI芯片设计提供了重要参考。


Ref:AI interposer power modeling &HBM power noise prediction studies

end



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来源:信号完整性设计
电源电路芯片云计算UM材料控制
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首次发布时间:2025-11-08
最近编辑:11月前
信号完整性设计
硕士 | 资深SIPI工程... 专注高速高频信号完整性
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