2015 年12 月 21 日,中国上海— Cadence DesignSystem, Inc. (现已正式更名为楷登电子,NASDAQ:CDNS)今日宣布,推出新一代 Virtuoso® 先进工艺平台(Cadence®Virtuoso Advanced-Node Platform),支持所有先进 10 纳米鳍式场效应晶体管(FinFET)设计。借助此款新一代定制设计平台,设计人员的工作效率可实现最高 5 倍提升;此外,该平台也为新兴的 7 纳米技术提供初步支持。
为应对伴随先进工艺FinFET 设计而来的挑战,Cadence® Virtuoso 先进工艺平台搭载多项创新功能,为设计人员提供支持,更好地管理设计复杂性和工艺效果。平台核心功能包括:
多重曝影技术(Multi-patterning)与色彩感知版图(Colour-aware layout):同层设计分解时,可以支持四个以上多重曝影,允许调用多套着色方案,用户工作效率显著提升。
电学感知设计 (EAD):支持设计人员在设计周期内解决寄生效应和电子迁移 (EM) 效应,而无需等到设计完成后。设计周期因此缩短30%。
基于模块生成器 (ModGen) 的器件阵列流程:支持阵列内布线,大大减少设计迭代,设计人员工作效率最高提升可达25倍。
10 纳米定制布线:支持全新设计规则,极大简化版图创建,最大程度地减少 10 纳米工艺制程设计中容易出现的着色错误。
在线物理验证系统 (iPVS):支持版图工程师在实现设计的同时,即时检测错误并予以修正,从而大幅减少设计规则错误,设计人员总体工作效率最高提升15%。
欲了解针对 10 纳米工艺制程优化的Virtuoso 先进工艺平台的更多信息,请参访http://www.cadence.com/news/virtuosoadvancednode/。
“创新是我们业务发展的核心。并且与一流晶圆厂及客户的密切合作,让我们能够针对先进节点工艺制程的需求,不断对定制设计平台进行优化,”Cadence 定制化IC 与 PCB 部门高级副总裁兼总经理Tom Beckley 表示。“Virtuoso先进工艺平台搭载的新功能可以帮助客户实现最佳结果,目前我们已经有多家客户在生产设计之初就采用了该平台,降低10 纳米设计的固有系统开销。”