武汉二元科技助力第七届计算成像技术与应用专题研讨会盛大召开

2025 年 5 月 23 日至 25 日，第七届计算成像技术与应用专题研讨会在上海盛大召开。武汉二元科技有限公司受邀出席此次盛会，与来自全国百余所高校、研究所及企业的近千名专家学者共襄盛举，深度探讨计算成像技术的前沿进展与应用未来。

产学研深度对话

武汉二元科技技术团队深度融入学术交流生态，与参会各方开展多轮技术研讨。我司携自主研发的国产光学软件精彩亮相，引发参会专家学者的广泛关注与深入探讨。软件实现了从几何光学到物理光学的跨尺度仿真，能够提供全流程光学解决方案，有力推动了光电行业的技术创新。

专题报告聚焦技术突破

 “致广尽微，同济天下” 为会议主题，内容聚焦计算成像基础理论、计算光源、编码成像等核心议题，通过特邀报告、专题研讨、展台交流等多元形式，构建起产学研用协同创新的高端交流平台。

研讨会汇聚了计算成像领域的众多专家学者，围绕前沿技术创新与产业应用展开深入交流。会议涵盖多场学术报告与技术研讨，内容涉及人工智能与光学交叉技术、生物医学成像应用、新型光学系统设计、复杂环境成像技术等多个方向，全面呈现了当前计算成像领域的研究热点与发展趋势。与会者就技术原理、应用场景及产业化路径等话题进行了广泛探讨，为行业发展提供了多元化的思路。

此次研讨会深度聚焦计算成像技术的理论突破与产业应用，为产学研协同创新搭建了重要桥梁。武汉二元科技有限公司将以此次会议为新起点，深化光学与成像设计的技术创新，推动计算成像技术与光学软件的深度融合，助力我国光电产业实现高水平科技自立自强。