Cadence 发布下一代 Sigrity X 产品，将系统分析加快 10 倍

内容提要：支持机器学习技术的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具通过了 GF 12LP/12LP+ 解决方案认证，检测效率最高提升 33%，且对执行时间的影响不超过 10%。Cadence 与 GF 的合作让采用 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的签核工程师可以加速芯片设计和生产，为 AI、数据中心、超大规模、航空航天和工业市场开发产品。 中国上海，2021 年 3 月 26 日——GLOBALFOUNDRIES® （GF®），一家全球领先的专业代工企业与楷登电子（美国 Cadence 公司，NASDAQ：CDNS）今日共同宣布，将发挥机器学习（ML）的可预测能力，在可制造性设计（DFM）签核领域展开合作。作为合作的一部分，Cadence® Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具（集成了由 GF 开发的 ML 模型，用于 DFM 模式分析）通过了 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的认证。ML 增强型的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具针对 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案做了专门优化，为客户提供了与设计同步的自动 DFM 热点检测和修复功能，以加速设计实现及缩短产品上市时间。对比传统的模式匹配检查，基于 ML 技术的增强将检测效率提升至高达 33%，且对执行时间的影响不超过 10%。GF 已经发布了对应于 ML 增强版的 DFM 工具包，且对 12LP 工艺设计包（PDKs）进行了更新，并计划于 2021 年第二季度发布面向 12LP+ 的版本，为客户提供面向人工智能（AI）、数据中心、物联网（IoT）及其它市场的加速芯片设计及生产的高效途径。作为 GF 最先进的 FinFET 解决方案，12LP+ 工艺针对 AI 训练和推理应用做了专门优化，为芯片设计师提供高效率的开发体验，以加速产品上市。GF 的 14nm/12LP 平台已经非常成熟，晶圆出货量已经超过 100 万片，而 12LP+ 正是基于这一平台，将 12LP 与 12LP+ 的组合充分发挥出 AI 和性能、面积、功耗（PPA）的组合优势，而无需迁移至面积更小且成本更高的几何设计。“通过将 ML 能力整合到 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具，使用 GF 12LP 平台和 12LP+ 解决方案的客户可以在设计实现的同时对签核进行验证，以获得更高的硅片质量，”GLOBALFOUNDRIES 公司技术支持副总裁Jim Blatchford表示，“与 Cadence 的合作让我们可以迅速提供技术支持，通过 12LP 和 12LP+ DPKs 的全新能力与客户的设计流程无缝集成。”ML 增强的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具与 Cadence Innovus™ Implementation System 设计实现系统和 Cadence Virtuoso® 定制 IC 设计平台无缝集成，以通用、熟悉的界面为客户提供流畅的设计体验。光刻物理分析工具是 Cadence 广泛数字全流程的组成部分，支持 Cadence 智能系统设计（Intelligent System Design™）战略，助力于片上系统（SoC）的卓越设计。“具备机器学习 ML 能力的不仅是光刻物理分析工具，整个 Cadence 设计实现平台都已全面支持 ML，为客户提供高度先进及精细的解决方案，”Cadence 公司数字与签核事业部研发部总裁 Michael Jackson 表示，“通过我们与 GF 的最新合作，客户可以利用 GF12LP/12LP+ 的解决方案来使用我们添加了 ML 增强的工具来实现设计的成功。同时，支持 ML 的光刻物理分析工具进一步强化了 GF 的 DRC+ 能力和提升了生产良率，可高效检测更多热点，并修复之前未被检出的热点模式。”来源：Cadence楷登