ML 增强型的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具针对 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案做了专门优化,为客户提供了与设计同步的自动 DFM 热点检测和修复功能,以加速设计实现及缩短产品上市时间。对比传统的模式匹配检查,基于 ML 技术的增强将检测效率提升至高达 33%,且对执行时间的影响不超过 10%。
GF 已经发布了对应于 ML 增强版的 DFM 工具包,且对 12LP 工艺设计包(PDKs)进行了更新,并计划于 2021 年第二季度发布面向 12LP+ 的版本,为客户提供面向人工智能(AI)、数据中心、物联网(IoT)及其它市场的加速芯片设计及生产的高效途径。
作为 GF 最先进的 FinFET 解决方案,12LP+ 工艺针对 AI 训练和推理应用做了专门优化,为芯片设计师提供高效率的开发体验,以加速产品上市。GF 的 14nm/12LP 平台已经非常成熟,晶圆出货量已经超过 100 万片,而 12LP+ 正是基于这一平台,将 12LP 与 12LP+ 的组合充分发挥出 AI 和性能、面积、功耗(PPA)的组合优势,而无需迁移至面积更小且成本更高的几何设计。
ML 增强的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具与 Cadence Innovus™ Implementation System 设计实现系统和 Cadence Virtuoso® 定制 IC 设计平台无缝集成,以通用、熟悉的界面为客户提供流畅的设计体验。
光刻物理分析工具是 Cadence 广泛数字全流程的组成部分,支持 Cadence 智能系统设计(Intelligent System Design™)战略,助力于片上系统(SoC)的卓越设计。