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GLOBALFOUNDRIES 将机器学习用于 GF 先进 FinFET DFM 签核

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内容提要:

支持机器学习技术的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具通过了 GF 12LP/12LP+ 解决方案认证,检测效率最高提升 33%,且对执行时间的影响不超过 10%。

Cadence 与 GF 的合作让采用 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的签核工程师可以加速芯片设计和生产,为 AI、数据中心、超大规模、航空航天和工业市场开发产品。


 
   

 
 

中国上海,2021 年 3 月 26 日——GLOBALFOUNDRIES® (GF®),一家全球领先的专业代工企业与楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日共同宣布,将发挥机器学习(ML)的可预测能力,在可制造性设计(DFM)签核领域展开合作。作为合作的一部分,Cadence® Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具(集成了由 GF 开发的 ML 模型,用于 DFM 模式分析)通过了 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的认证。


ML 增强型的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具针对 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案做了专门优化,为客户提供了与设计同步的自动 DFM 热点检测和修复功能,以加速设计实现及缩短产品上市时间。对比传统的模式匹配检查,基于 ML 技术的增强将检测效率提升至高达 33%,且对执行时间的影响不超过 10%。


GF 已经发布了对应于 ML 增强版的 DFM 工具包,且对 12LP 工艺设计包(PDKs)进行了更新,并计划于 2021 年第二季度发布面向 12LP+ 的版本,为客户提供面向人工智能(AI)、数据中心、物联网(IoT)及其它市场的加速芯片设计及生产的高效途径。


作为 GF 最先进的 FinFET 解决方案,12LP+ 工艺针对 AI 训练和推理应用做了专门优化,为芯片设计师提供高效率的开发体验,以加速产品上市。GF 的 14nm/12LP 平台已经非常成熟,晶圆出货量已经超过 100 万片,而 12LP+ 正是基于这一平台,将 12LP 与 12LP+ 的组合充分发挥出 AI 和性能、面积、功耗(PPA)的组合优势,而无需迁移至面积更小且成本更高的几何设计。


“通过将 ML 能力整合到 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具,使用 GF 12LP 平台和 12LP+ 解决方案的客户可以在设计实现的同时对签核进行验证,以获得更高的硅片质量,”GLOBALFOUNDRIES 公司技术支持副总裁Jim Blatchford表示,“与 Cadence 的合作让我们可以迅速提供技术支持,通过 12LP 和 12LP+ DPKs 的全新能力与客户的设计流程无缝集成。”


ML 增强的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具与 Cadence Innovus Implementation System 设计实现系统和 Cadence Virtuoso® 定制 IC 设计平台无缝集成,以通用、熟悉的界面为客户提供流畅的设计体验。


光刻物理分析工具是 Cadence 广泛数字全流程的组成部分,支持 Cadence 智能系统设计(Intelligent System Design)战略,助力于片上系统(SoC)的卓越设计。


“具备机器学习 ML 能力的不仅是光刻物理分析工具,整个 Cadence 设计实现平台都已全面支持 ML,为客户提供高度先进及精细的解决方案,”Cadence 公司数字与签核事业部研发部总裁 Michael Jackson 表示,“通过我们与 GF 的最新合作,客户可以利用 GF12LP/12LP+ 的解决方案来使用我们添加了 ML 增强的工具来实现设计的成功。同时,支持 ML 的光刻物理分析工具进一步强化了 GF 的 DRC+ 能力和提升了生产良率,可高效检测更多热点,并修复之前未被检出的热点模式。”

来源:Cadence楷登
System电路通用航空航天汽车电子Cadence人工智能InVEST
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首次发布时间:2025-10-01
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Cadence楷登
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