● Cadence 20.1 数字全流程面向 Samsung Foundry 先进工艺节点进行全面优化,实现更好的 PPA 目标,帮助客户流片一次成功
● 基于 iSpatial 技术的 HPC 参考设计流程助力快速设计实现
● Cadence 数字全流程的机器学习及大型/标准单元同步布局功能,可帮助客户提高生产率和优化设计
中国上海,2021 年 4 月 15 日——楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日宣布,已面向 Samsung Foundry 4 纳米及更高的工艺节点推出优化的 Cadence® 数字全流程 20.1 版本。基于本次合作,设计师可以使用 Cadence 工具达到更优的功耗、性能和面积(PPA)目标,以及面向超大规模计算应用交付精确且一次流片成功的芯片。
Cadence 数字流程 20.1 版本针对 Samsung Foundry 先进工艺技术提供量身打造的优化能力。例如,iSpatial 技术可以支持从 Genus™ Synthesis Solution 综合解决方案到 Innovus™ Implementation System 设计实现系统利用统一的用户界面和数据库进行无缝结合。
机器学习(ML)功能可帮助用户利用现有设计来训练 GigaOpt™ 优化技术,相比传统布局流程实现设计裕度的最小化。
结合高性能时钟网络架构,数字 GigaPlace XL 技术支持大型/标准单元同步布局,支持自动化版图规划,从而达到更高的设计生产力,同时大幅优化线长和功耗。统一的设计实现、时序及 IR 签核引擎进一步增强了签核收敛,减少设计裕度和迭代次数。
为了加速 Samsung Foundry 先进工艺技术的设计流程,现已推出针对大型/标准单元同步布局、时钟网络、平衡的 H 型时钟树分布、功率输出网络及 IR 优化等通用高性能计算(HPC)任务的流程示例。
完整的 Cadence RTL-to-GDS 流程也面向 Samsung Foundry 的工艺技术进行了优化,包括 Genus Synthesis Solution 综合解决方案、 Cadence Modus DFT 软件解决方案、Innovus Implementation System 设计实现系统、Quantus™ Extraction Solution 提取解决方案、Tempus™ Timing Signoff Solution 时序签核解决方案、Tempus ECO Option、Tempus Power Integrity Solution 电源完整性解决方案、Voltus™ IC Power Integrity Solution 电源完整性解决方案、Conformal® Equivalence Checker 等价性检查器、Conformal Low Power 低功耗工具、Litho Physical Analyzer 光刻物理分析器以及 CMP Predictor 预测工具。
Cadence 20.1 数字全流程支持公司的智能系统设计™ 战略(Intelligent System Design™ ),助力客户实现 SoC 卓越设计。