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Samsung Foundry 合作加速 4 纳米及更高工艺的超大规模计算 SoC 设计

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内容提要

Cadence 20.1 数字全流程面向 Samsung Foundry 先进工艺节点进行全面优化,实现更好的 PPA 目标,帮助客户流片一次成功

基于 iSpatial 技术的 HPC 参考设计流程助力快速设计实现

Cadence 数字全流程的机器学习及大型/标准单元同步布局功能,可帮助客户提高生产率和优化设计


 


   


中国上海,2021 年 4 月 15 日——楷登电子(美国 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)今日宣布,已面向 Samsung Foundry 4 纳米及更高的工艺节点推出优化的 Cadence® 数字全流程 20.1 版本。基于本次合作,设计师可以使用 Cadence 工具达到更优的功耗、性能和面积(PPA)目标,以及面向超大规模计算应用交付精确且一次流片成功的芯片。


Cadence 数字流程 20.1 版本针对 Samsung Foundry 先进工艺技术提供量身打造的优化能力。例如,iSpatial 技术可以支持从 Genus Synthesis Solution 综合解决方案到 Innovus Implementation System 设计实现系统利用统一的用户界面和数据库进行无缝结合。


机器学习(ML)功能可帮助用户利用现有设计来训练 GigaOpt 优化技术,相比传统布局流程实现设计裕度的最小化。


结合高性能时钟网络架构,数字 GigaPlace XL 技术支持大型/标准单元同步布局,支持自动化版图规划,从而达到更高的设计生产力,同时大幅优化线长和功耗。统一的设计实现、时序及 IR 签核引擎进一步增强了签核收敛,减少设计裕度和迭代次数。


为了加速 Samsung Foundry 先进工艺技术的设计流程,现已推出针对大型/标准单元同步布局、时钟网络、平衡的 H 型时钟树分布、功率输出网络及 IR 优化等通用高性能计算(HPC)任务的流程示例。


完整的 Cadence RTL-to-GDS 流程也面向 Samsung Foundry 的工艺技术进行了优化,包括 Genus Synthesis Solution 综合解决方案、 Cadence Modus DFT 软件解决方案、Innovus Implementation System 设计实现系统、Quantus Extraction Solution 提取解决方案、Tempus Timing Signoff Solution 时序签核解决方案、Tempus ECO Option、Tempus Power Integrity Solution 电源完整性解决方案、Voltus IC Power Integrity Solution 电源完整性解决方案、Conformal® Equivalence Checker 等价性检查器、Conformal Low Power 低功耗工具、Litho Physical Analyzer 光刻物理分析器以及 CMP Predictor 预测工具。


     

“ 随着超大规模计算和自动驾驶创新的深化,对 HPC 容量的需求越来越高。” Samsung Electronics 代工设计技术团队副总裁 Sangyun Kim 表示,“通过最新 Samsung Foundry 先进工艺节点与 Cadence 20.1 数字全流程的结合,我们的客户可以更快更高效地实现设计目标。”

     


     

 “全新优化的 Cadence 数字流程帮助使用 Samsung Foundry 先进工艺技术的客户更容易实现PPA目标,”Cadence 公司数字与签核研发事业部全球副总裁 Michael Jackson 表示,“得益于和 Samsung Foundry 的长期合作,设计师可以快速采纳 Samsung Foundry 经过验证的 HPC 方法论,按时实现卓越的硅片性能。”

     


Cadence 20.1 数字全流程支持公司的智能系统设计 战略(Intelligent System Design ),助力客户实现 SoC 卓越设计。

来源:Cadence楷登
ACTSystemHPC电源电路通用航空汽车电子电源完整性消费电子Cadence
著作权归作者所有,欢迎分享,未经许可,不得转载
首次发布时间:2025-10-02
最近编辑:1天前
Cadence楷登
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